Description of the publication:

Authors:

Mariusz Ozimek, Andrzej Sikora, Dominika Gaworska–Koniarek, Wiesław Wilczyński

Title:

Nanoskopowa analiza struktury domenowej materiałów magnetycznych z wykorzystaniem mikroskopii bliskiego pola

Journal:

Przegląd Elektrotechniczny (Electrical Review)

Year:

2010

Vol:

R. 86 NR 4

Pages:

72–74

ISSN/ISBN:

0033-2097

DOI:

-----

Link:

http://www.sigma-not.pl/publikacja-51522-nanoskopowa-analiza-orientacji-domen-magnetycznych-z-wykorzystaniem-technik-bliskiego-pola-przeglad-elektrotechniczny-2010-4.html

Keywords:

Mikroskopia sił magnetycznych, domeny magnetyczne, cienkie warstwy Ni–Fe, rozpylanie magnetronowe.

Abstract:

Cienkie warstwy NiFe otrzymano na szkle kwarcowym za pomocą impulsowego rozpylania magnetronowego. Proces nakładania prowadzono przy stałej mocy (550 W) i różnym ciśnieniu gazu roboczego (0.4, 1.0, 4.0 Pa). Zbadano strukturę domenową otrzymanych warstw za pomocą mikroskopii sił magnetycznych (MFM). Grubość powłok zawierała się w przedziale od 80 do 150 nm.

References:

♦ Garcia R., Dietler G., Dynamic atomic force microscopy methods, Surface Science Reports, 47 (2002), No. 6-8, 197-301
♦ Giessibl F., Advanced in atomic force microscopy, Reviews of Modern Physics, 75 (2003), 949-983.
♦ Proksch R., Recent advances in magnetic force microscopy, Current Opinion in Solid State and materials Science, 4 (1999), No. 2, 231-236
♦ Folks L., Woodward R.C., The use of MFM for investigation domain structures in modern permanent magnet materials, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 190 (1998), 28-41
♦ Zhong Z., Zhang H., Jing Y., Tang X., Liu S., Magnetic microstructure and magnetoimpedance effect in NiFe/FeAlN multilayer films, Sensor and Actuators A, 141 (2008), No. 1, 29-33
♦ Wang Z.H., Chen K., Zhou Y., Zeng H.Z., MFM studies of microstructure and magnetic properties of iron thin films prepared by sputtering, Ultramicroscopy, 105 (2005), No. 1-4, 343-346
♦ Kelly P.J., Arnell R.D.: Magetron sputtering: a review or recent developments and applications. Vacumm, 56 (2000), No. 3, 159-172
♦ Xiang Y., Chengbiao W., Yang L., Deyang Y., Tingyan X.: Recent Developments in Magnetron Sputtering. Plasma Science & Technology, 1.8 (2006), No. 3, 337-343
♦ Chen X., Qiu H., Wu P., Wang F., Pan L., Tian Y., Phase transformation of Ni33Fe67 and Ni21Fe79 films grown on SiO2/Si(100), Physica B, 362 (2005), No 1-4, 255 - 265
♦ Li X.H., Yang Z., Effects of sputtering conditions on the structure and magnetic properties of Ni-Fe films, Materials Science and Engineering B, 106 (2004), No. 1, 41-45

Example figure:

Rozkład domen magnetycznych w cienkiej warstwie ekranującej EM.